SEEFELD (pi) - Ein Infrarot-Topografie-System haben Hamamatsu und MITI, Japan, entwickelt. Das IRTS-II-System soll zur makroskopischen und mikroskopischen Untersuchung von GaAs- oder GaP-Wafern eingesetzt werden.

Laut Hamamatsu ermöglicht die neue Anlage zerstörungsfreie Prüfung von Wafern hinsichtlich Einlagerungen, Versetzung, dem "EL 2"-Defekt und Kristallverzerrunqen, oder 3-Zoll-Wafern mit einer Dicke von bis zu vier Millimetern.

Mit einer Infrarotkamera wird das Bild aufgenommen und in einem speziellen Bildverarbeitungssystem aufbereitet. Der Benutzer könne das Ergebnis sofort auf einem Videomonitor betrachten oder an externe Rechner weitergeben.

Anwendung finden soll IRTS-II im Produktions- und Laborbereich bei Wafer-, IC- oder Laserdioden-Herstellern.

Informationen: Hamamatsu Photonics Europe GmbH, Mühlbachstraße 20, 8031 Seefeld 1, Tel.: 0 8152 / 77 05