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Infineon produziert 40 Nanometer dünne Kupferdrähte

03.06.2002

MÜNCHEN (COMPUTERWOCHE) - Forschern des Münchner Halbleiterkonzerns Infineon ist es gelungen, Kupferleiterbahnen mit Strukturbreiten von nur 40 Nanometern (Millionstel Millimeter) herzustellen. Dies entspricht etwa dem tausendstel Durchmesser eines menschlichen Haares. Damit ist aus Sicht des Unternehmens der Beweis erbracht, dass auch bei anhaltender Miniaturisierung von Chip-Strukturen nach dem Mooreschen Gesetz ("Die Zahl der Transistoren auf einem Chip verdoppelt sich alle 18 Monate") die elektrischen Anforderungen an die Transistor-Verdrahtungen mit heutigen Produktionsmethoden erfüllbar sind.

Die gegenwärtig modernsten Belichtungsgeräte erzeugen allerdings nur Strukturgrößen knapp unter 100 Nanometer. Für ihre Forschung bedienten sich die Infineon-Forscher der so genannten Spacer-Technik, bei der die mittels herkömmlicher Lithographie geätzten Grabenstrukturen später nochmals durch chemische Prozesse verengt werden. Die so erzeugten Leiter wurden erfolgreich elektrisch bewertet. Dabei legte das Unternehmen nach eigenen Angaben dieselben Maßstäbe an wie bei den heutigen Strukturgrößen. (tc)