Die IBM hat nach eigenen Angaben einen Rekord bei der Produktion immer kleinerer Computerchips aufgestellt. Die nun entwickelte Methode erlaubt es, mit dem konventionellen Produktionsweg noch weit kleinere Strukturen auf die Mikroprozessoren aufzubringen, als man bislang für möglich gehalten hatte. Für die Hersteller könne dies ein erheblicher finanzieller Vorteil sein, erklärte IBM-Sprecher Hans-Jürgen Rehm, denn "moderne Belichtungsanlagen kosten heute ein mörderisches Geld".

Für das neue Verfahren haben die IBM-Forscher ein Interferenz-Immersions-Lithografie-Testsystem mit dem Namen "Nemo" entwickelt, mit dem sich Interferenzmuster schaffen lassen, bei denen die Abstände kleiner sind als bei den aktuellen Fertigungsverfahren. Nemo nutzt zwei Laserstrahlen statt wie bisher nur einen. So lassen sich schärfere Linien für die "Beschriftung" der Chips ziehen. Außerdem verwenden die Forscher beim so genannten Immersionsverfahren statt Wasser eine Flüssigkeit mit höherem Brechungsindex. Die Folge davon ist, dass die Wellenlänge des Lichtstrahls weiter verkürzt und er feiner aufgebracht werden kann.

Mit dem neuen Verfahren erreichten die IBM-Forscher eine Strichbreite von nur noch 29,9 Nanometern. Die Lithografien auf herkömmlichen Mikroprozessoren sind derzeit 90 Nanometer breit, große Hersteller wie Intel stellen ihre Fabriken aktuell auf 65-Nanometer-Technik um. "Unser Ziel ist es, das Verfahren der optischen Lithografie so weit wie möglich zu verfeinern, damit die Industrie nicht früher als unbedingt nötig auf neue und teure Alternativen umsteigen muss", sagte Robert Allen, Forscher an IBMs Almaden Research Center. Mit der neuen Technik soll das herkömmliche Verfahren mit tief ultraviolettem Laserstrahl (DUV) beibehalten werden. (tc/kk)