MENLO PARK (IDG) - Eine neuartige Technik zur Herstellung inte- grierter Schaltkreise wurde von IBM-Technikern in den USA vorgestellt. Damit könnten möglicherweise einmal Speicherchips mit einer Kapazität von 64 Megabit in die Massenproduktion gehen.

Die "X-Ray Litography", die am Brookhaven National Laboratory in Upton im US-Bundesstaat New York entwickelt wurde, ermöglicht Chip Herstellung in Halbmikron-Technologie. Der bisherige Stand der Technik, der auf 1-Mikron-Technologie beruht, erlaubt die Herstellung von 1-Megabit-Chips. IBM Forschern gelang es jetzt erstmals, einen Chip vollständig in Halbmikron-Technik zu fertigen.

Nach Angaben von IBM-Forscher Jerome Silverman haben die

Röntgenstrahlen gegenüber Licht oder UV-Licht, das bisher bei der Chipherstellung benutzt wurde, mehrere Vorteile. Die Wellenlänge der Röntgenstrahlen ermöglicht die Darstellung extrem dünner Linien. Außer dem erlauben Röntgenstrahlen auch die Bearbeitung von molekularen Verunreinigungen des Siliziums, was mit Licht oder UV-Licht nicht möglich ist. Damit können die Probleme, die diese unreinen Bereiche bisher aufgeworfen haben, gelöst und die Ausbeute an funktionsfähigen Chips erhöht werden.