YASU (vwd/IDG) - IBMs Forscher können bei der Miniaturisierung von Chip-Bausteinen einen weiteren Erfolg verbuchen: Der "P-Channel"-Mosfet-Transistor (Metall-Oxid-Semiconductor-Field-Effekt) ist weniger als ein Mikron breit - was dem Bruchteil eines menschlichen Haares entspricht. Diese Transistoren werden vor allem in Speicher- und hochintegrierten Logik-Chips eingesetzt.

Die IBM-Forscher kombinierten ein neues Design mit neuen Werkstoffen, um den Experimentaltransistor zu bauen, und erhöhten dessen Leistungsfähigkeit durch eine superdünne Leitung mit Silizium-Germanium-Legierung. Die Legierung zeichnet auch verantwortlich für die Reduzierung der Abstrahlung in den stromführenden Kanälen.