Massenfertigung von 64-MB-Chips

TOKIO (vwd) - Einen möglicherweise entscheidenden Schritt zur Massenfertigung von 64-MB-Chips hat die NEC Corp. getan: Mit der Entwicklung der von dem Unternehmen als "Super-ECR Plasma Etching" bezeichneten Technologie will NEC zunächst die Herstellung von 16-MB-Chips forcieren. Diese befinden sich zur Zeit noch in der Erprobungsphase. Als Vorteile des Plasma-Etching-Verfahrens werden dessen Schnelligkeit und Präzision genannt. Erst vor kurzem hatte die Hitachi Ltd. bekanntgegeben, daß sie die Entwicklung eines 64-MB-Bausteins vollendet hätte.